[发明专利]固化膜形成用组合物、取向材及相位差材在审
| 申请号： | 201380068435.3 | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN104903405A | 公开（公告）日： | 2015-09-09 |
| 发明（设计）人： | 汤川升志郎;石田智久;畑中真 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L101/02 | 分类号： | C08L101/02;C08K5/04;C08K5/23;C08L33/00;G02B5/30;G02F1/13363;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 黄媛;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种形成具备优异的光反应效率和耐溶剂性的固化膜形成用组合物，提供一种光取向用的取向材和使用该取向材而形成的相位差材。作为解决本发明课题的方法涉及一种本发明的固化膜形成用组合物，其含有：(A)具有光取向性基团与选自羟基、羧基、氨基和烷氧基甲硅烷基的任一种中的至少一种取代基的化合物，以及(B)具有能够与(A)成分热反应的取代基且能够自交联的化合物。使用该固化膜形成用组合物，形成固化膜，利用光取向技术来形成取向材。在该取向材上涂布聚合性液晶，进行固化而获得相位差材。 | ||
| 搜索关键词： | 固化 形成 组合 取向 相位差 | ||
【主权项】：
一种固化膜形成用组合物，其特征在于，含有：(A)具有光取向性基团与选自羟基、羧基、氨基和烷氧基甲硅烷基的任一种中的至少一种取代基的化合物，以及(B)具有能够与(A)成分热反应的取代基且能够自交联的聚合物。
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