[发明专利]光学元件制造以及并入有所述光学元件的模块在审
申请号: | 201380067470.3 | 申请日: | 2013-12-10 |
公开(公告)号: | CN104937445A | 公开(公告)日: | 2015-09-23 |
发明(设计)人: | 西蒙·古布斯尔;哈坎·卡尔普兹 | 申请(专利权)人: | 赫普塔冈微光有限公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;B29D11/00;G02B1/04;G02B5/04;G02B5/18;H01L23/00 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;吴启超 |
地址: | 新加坡新*** | 国省代码: | 新加坡;SG |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 制造晶圆级间隔件/光学结构包括:使用单个复制工具将光学复制元件和间隔件复制区段直接复制到光学晶圆(或其它晶圆)上。所复制的光学元件和间隔件元件可由相同或不同的材料组成。 | ||
搜索关键词: | 光学 元件 制造 以及 并入 有所 模块 | ||
【主权项】:
一种制造晶圆级间隔件/光学结构的方法,所述方法包括:提供具有光学元件复制区段和间隔件复制区段的复制工具;使用所述复制工具在晶圆上形成所述光学元件复制区段的负片,以便提供第一材料的复制的光学元件;以及使用所述复制工具在所述晶圆上形成所述间隔件复制区段的负片,以便提供不同于所述第一材料的第二材料的复制的间隔件元件。
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