[发明专利]基板处理装置、器件制造系统及器件制造方法

摘要

具有：投影光学系统(PL)，使来自光罩(M)的第1投影光束(EL2a)成像而形成中间像，使来自形成中间像的中间像面(P7)的第2投影光束(EL2b)在基板(P)上再成像而形成投影像；光量减少部，将从第1投影光(EL2a)产生的投射至基板(P)上的泄漏光的光量减少，投影光学系统(PL)具有：部分光学系统(61)，使来自光罩(M)的第1投影光(EL2a)成像并投射至中间像面(P7)；反射光学系统(62)，将从部分光学系统(61)投射的第1投影光(EL2a)引导至中间像面(P7)，且将来自中间像面(P7)的第2投影光(EL2b)引导至部分光学系统(61)，部分光学系统(61)使来自中间像面(P2)的第2投影光(EL2b)再成像并在基板(P)上形成投影像。

主权项

一种基板处理装置，具有：投影光学系统，其通过来自光罩部件的图案的第1投影光而在规定的中间像面上形成所述图案的中间像，且使从所述中间像面向规定的基板行进的第2投影光以再次从所述投影光学系统通过的方式折返，从而在所述基板上形成所述中间像再成像而得到的投影像；以及光量减少部，其将所述第1投影光的一部分作为泄漏光而投射至所述基板上的光量减少，所述投影光学系统具有：入射来自所述图案的所述第1投影光而形成所述中间像的部分光学系统；以及导光光学系统，其将从所述部分光学系统射出的所述第1投影光引导至所述中间像面，并将来自所述中间像面的所述第2投影光再次引导至所述部分光学系统，所述部分光学系统使来自所述中间像面的所述第2投影光再成像，并在所述基板上形成所述投影像。