[发明专利]可光固化组合物及包括由组合物形成的阻挡层的设备有效
申请号: | 201380064963.1 | 申请日: | 2013-07-08 |
公开(公告)号: | CN104854507B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 权智慧;权孝英;南成龙;吴世一;禹昌秀;李连洙;李昌珉;崔承集;河京珍 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/028;H01L51/50 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张英;宫传芝 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及:一种可光固化组合物,包含(A)可光固化单体和(B)包含磷和酰胺基团的单体;以及包括由所述组合物形成的阻挡层的设备。 | ||
搜索关键词: | 光固化 组合 包括 形成 阻挡 设备 | ||
【主权项】:
1.一种可光固化组合物,包含:(A)可光固化单体;(B)包含磷和酰胺基团的单体;和(C)引发剂,其中,所述(B)包含磷和酰胺基团的单体由式1表示:[式1]
其中,X1和X2相同或不同并且各自独立地是O、S、NH、或NR',R'为氢或取代或未取代的C1至C20烷基基团;R1和R2相同或不同并且各自独立地是氢、取代或未取代的C1至C30烷基基团、取代或未取代的C3至C30环烷基基团、取代或未取代的C1至C30烷基醚基团、取代或未取代的C1至C30烷基胺基团、取代或未取代的C1至C30二烷基胺基团、取代或未取代的C1至C30硫代烷基基团、取代或未取代的C6至C30芳基基团、取代或未取代的C7至C30芳烷基基团、取代或未取代的C1至C30烷氧基基团、或取代或未取代的C7至C30芳基烷氧基基团;R3是取代或未取代的C1至C30亚烷基基团、取代或未取代的C5至C30亚环烷基基团、取代或未取代的C1至C30烷基醚基团、取代或未取代的C1至C30烷基胺基团、取代或未取代的C6至C30亚芳基基团、取代或未取代的C7至C30芳基亚烷基基团、或取代或未取代的C1至C30亚烷氧基基团;Z1和Z2相同或不同并且各自独立地是氢或C1至C10烷基基团,或由式2表示:[式2]
其中,* 表示与式1中的N的结合位点;R4是取代或未取代的C1至C30亚烷基基团、取代或未取代的C6至C30亚芳基基团、取代或未取代的C7至C30芳基亚烷基基团、或取代或未取代的C1至C30亚烷氧基基团;R5是氢或取代或未取代的C1至C5烷基基团;且n是0至20的整数;并且Z1和Z2中的至少一个由式2表示。
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