[发明专利]相位调制方法以及相位调制装置在审

专利信息
申请号: 201380058975.3 申请日: 2013-11-07
公开(公告)号: CN104781724A 公开(公告)日: 2015-07-15
发明(设计)人: 泷口优;井上卓 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G02F1/01 分类号: G02F1/01;G02F1/13
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供能够简单地求得用于高精度地实现所希望的强度分布的相位调制方法。以在靶面(TA)上调制光(P2)具有规定的强度分布的方式计算出显示于相位调制面(20a)的相位分布并使该相位分布显示于相位调制面(20a),使读出光(P1)入射到相位调制面(20a)而生成调制光(P2)。在计算相位分布的时候,以将相位调制面(20a)上的区域分割成N个区域(A1……AN)并且区域(A1……AN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。另外,以将靶面(TA)上的区域分割成N个区域(B1……BN)并且区域(B1……BN)上的强度分布的积分值互相相等的方式设定它们的大小。通过求得从区域(An)到区域(Bn)的光路长度(Ln)并根据光路长度(Ln)决定区域(An)的相位,从而计算出相位分布。
搜索关键词: 相位 调制 方法 以及 装置
【主权项】:
一种相位调制方法,其特征在于:是通过使用具有包含二维排列的多个区域的相位调制面的空间光调制器,在所述多个区域的每个区域调制包括光轴的任意的截面上的强度分布相对于所述光轴成为轴对称的读出光的相位,从而生成调制光的相位调制方法,具备:相位分布计算步骤,以在从所述相位调制面仅离开规定的光学距离的靶面上所述调制光具有规定的强度分布的方式计算出显示于所述相位调制面的相位分布;以及调制光生成步骤,使所述相位分布显示于所述相位调制面并使所述读出光入射到所述相位调制面而生成所述调制光,所述相位分布计算步骤包含:设定步骤,以将所述读出光所入射的所述相位调制面上的区域分割成将所述读出光的光轴作为中心的同心圆状的N个区域A1……AN并且包括所述读出光的光轴的截面上的所述区域A1……AN上的强度分布的积分值互相相等的方式设定所述区域A1……AN的大小,以将所述靶面上的区域分割成将所述调制光的光轴作为中心的同心圆状的N个区域B1……BN并且包括所述调制光的光轴的截面上的所述区域B1……BN上的强度分布的积分值互相相等的方式设定所述区域B1……BN的大小,其中,N为2以上的整数;以及计算步骤,通过求得从所述区域An到所述区域Bn的光路长度Ln并根据所述光路长度Ln决定所述区域An的相位,从而计算出所述相位分布,其中,n为从1到N的各个整数。
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