[发明专利]透明导电性膜在审
申请号: | 201380056670.9 | 申请日: | 2013-11-01 |
公开(公告)号: | CN104769684A | 公开(公告)日: | 2015-07-08 |
发明(设计)人: | 松田祥一;友久宽;西田干司 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01B5/14 | 分类号: | H01B5/14;B32B7/02;B32B27/18;G02F1/1343;G06F3/041;G09F9/00;G09F9/30;H01L27/32;H05K9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种透明导电性膜,其制造简便容易,透过率及导电性高,且可抑制虹状的斑纹的产生。本发明的透明导电性膜是具有透明基材及形成于该透明基材上的透明导电层、且总光线透过率为80%以上的透明导电性膜,该透明基材的厚度方向的相位差的绝对值为100nm以下,且该透明导电层包含金属纳米线或金属网。在优选的实施方式中,上述透明基材的厚度方向的相位差为50nm以下。 | ||
搜索关键词: | 透明 导电性 | ||
【主权项】:
一种透明导电性膜,其是具有透明基材及形成于该透明基材上的透明导电层、且总光线透过率为80%以上的透明导电性膜;其中,所述透明基材的厚度方向的相位差的绝对值为100nm以下;所述透明导电层包含金属纳米线或金属网。
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