[发明专利]形成膜层的装置

摘要

本申请涉及一种形成膜层的装置，以及原子层沉积法或形成膜层的方法。根据本申请，提供了一种能够通过连续原子层沉积有效形成所需膜层的形成膜层的装置，以及采用所述形成膜层的装置的原子层沉积法或形成膜层的方法。

主权项

一种形成膜层的装置，包括：传输系统，其含有至少一个安装成用于传输基底的导辊；以及第一处理区，其安装成用于在要传输的基底的表面上形成前驱体层，其中，所述处理区包括第一室和设置于所述第一室上侧或下侧的第二室，其中在所述第一室中形成通行部，通过该通行部能够将所述基底从所述第一室的上侧或下侧引入所述第二室，以及其中，所述导辊分别位于所述第一室和第二室的每一个中，并被安装成形成路径，通过该路径所述基底能够穿过所述第一室，接着经由所述通行部穿过所述第二室。