[发明专利]用于分析系统的装置、具有该装置的分析系统和用于使用该装置的方法有效
| 申请号： | 201380054464.4 | 申请日： | 2013-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN104737000B | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | E.J.K.维斯特根;A.J.G.曼克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65;G01N21/64;G01J3/44;G02B21/00;G02B3/12;G02B3/14;G02B5/04;G02B5/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘鹏;景军平 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种用于在空间偏移测量和分析系统中使用的具有双折射部件的装置。双折射光学装置提供激励信号的相对于发射信号不同的方向控制，从而能够针对激励信号相对于发射信号二者或仅仅其中一个控制样品上的激励和发射位置之间的偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分析 系统 装置 具有 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在执行介质的空间偏移分析时使用的装置，该装置包括：包含双折射材料的双折射部件，所述双折射部件被配置成执行将第一偏振的主辐射束引导朝向介质上的第一位置的第一操作，所述双折射部件还被配置成执行将从介质上的第二位置收集到的第二偏振的副辐射束的至少一部分引导朝向用于检测副辐射的检测器的第二操作，所述副辐射是由所述主辐射照射介质而造成的，该第二位置至少部分地不同于第一位置，其中由于第一偏振不同于第二偏振的原因，第一操作的效果不同于第二操作的效果。
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