[发明专利]EUV掩模检验系统的光学器件的波前像差度量无效
| 申请号： | 201380052647.2 | 申请日： | 2013-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN104755909A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 张强;刘燕维;阿卜杜勒拉赫曼（阿波）·塞兹吉内尔 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/33 | 分类号： | G01N21/33;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明揭示一种用于测量极紫外光EUV检验系统的波前像差的测试结构。所述测试结构包含衬底，其由对EUV光实质上无反射性的材料形成；及多层ML堆叠部分(例如柱)，其形成于所述衬底上且包括具有不同折射率以反射EUV光的多个交替层对。所述对具有等于或小于15的计数。 | ||
| 搜索关键词： | euv 检验 系统 光学 器件 波前像差 度量 | ||
【主权项】：
一种用于测量极紫外光EUV检验系统的波前像差的测试结构，其包括：衬底，其由对EUV光实质上无反射性的材料形成；及多层ML堆叠部分，其形成于所述衬底上且包括具有不同折射率以反射EUV光的多个交替层对，其中所述ML堆叠部分布置于所述衬底上以暴露所述衬底的一部分。
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