[发明专利]包括冷却装置和光学体的照明系统有效

专利信息
申请号: 201380049530.9 申请日: 2013-08-14
公开(公告)号: CN104662360B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: T·雷特维勒;M·米格 申请(专利权)人: 黑拉许克联合股份有限公司
主分类号: F21S41/141 分类号: F21S41/141;F21V29/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 吕晨芳
地址: 德国利*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种冷却装置(10),其用于照明系统(100)中的至少一个光源(110),所述冷却装置包括冷却体(20),所述冷却体具有至少一个用于接收所述至少一个光源(110)的热量的接触面(22)和至少一个用于释放所接收的热量的冷却元件(24),其特征在于,冷却体(20)具有机械的接口(26),所述接口构成用于可选地布置在至少两个不同的光学构件(50)的配合接口(66)上。
搜索关键词: 冷却装置 冷却体 照明系统 光源 光学构件 冷却元件 配合接口 光学体 可选 释放
【主权项】:
用于影响照明系统(100)中的至少一个光源(110)的光方向的光学构件(50),所述光学构件具有包括至少一个用于影响光方向的光学有效的面(62)的光学体(60),其特征在于,光学体(60)具有机械的配合接口(66),所述配合接口构成用于布置至少一个冷却装置(10),所述冷却装置包括冷却体(20),所述冷却体具有至少一个用于接收所述至少一个光源(110)的热量的接触面(22)和至少一个用于释放所接收的热量的冷却元件(24),冷却体(20)具有机械的接口(26),所述机械的接口能够布置在至少两个不同的光学构件(50)的配合接口(66)上,光学构件是将直接的或间接的影响施加给由光源发射的光的构件,所述冷却装置作为单独的构件安装在光学构件上。
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