[发明专利]用于回收光学加工装置的未利用的光学辐射能的方法、回收装置和光学加工装置有效
| 申请号： | 201380047224.1 | 申请日： | 2013-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN104619457B | 公开（公告）日： | 2017-04-05 |
| 发明（设计）人： | T·米特拉 | 申请（专利权）人： | LIMO专利管理有限及两合公司 |
| 主分类号： | B23K26/70 | 分类号： | B23K26/70;B23K37/00;F22B1/00;H01L31/04 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 张立国 |
| 地址： | 德国多*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源、尤其是激光光源(2)或者具有多个发光二极管的光源，该方法包括如下步骤运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。此外，本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的电磁辐射能的回收装置(6、6a、6b)以及涉及一种光学加工装置(1)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 回收 光学 加工 装置 利用 辐射能 方法 | ||
【主权项】：
用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源，该方法包括如下步骤：——运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，——给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，——将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，——将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。
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