[发明专利]检验晶片及/或预测形成于晶片上的装置的一或多个特性有效
| 申请号： | 201380047045.8 | 申请日： | 2013-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN104620097B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | G·马尔库奇利;A·威德曼;E·张;J·鲁滨逊;A·帕克 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;H01L21/027;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于检验晶片及/或预测形成于晶片上的装置的一或多个特性的方法。一种方法包含获取印刷于晶片上的多个裸片的图像，所述裸片中的每一者是通过对所述晶片执行双重图案化光刻过程而印刷，且所述裸片包含以针对所述双重图案化光刻过程的叠对的标称值印刷的两个或两个以上裸片以及以所述叠对的经调制值印刷的一或多个裸片；将针对以所述标称值印刷的所述多个裸片所获取的所述图像与针对以所述经调制值印刷的所述多个裸片所获取的所述图像进行比较；及基于所述比较步骤的结果来检测以所述经调制值印刷的所述多个裸片中的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 检验 晶片 预测 形成 装置 特性 | ||
【主权项】：
一种用于检验晶片的方法，其包括：获取印刷于晶片上的多个裸片的图像，其中所述多个裸片中的每一者是通过对所述晶片执行双重图案化光刻过程而印刷，且其中所述多个裸片包括以针对所述双重图案化光刻过程的叠对的标称值印刷的两个或两个以上裸片以及以所述叠对的经调制值印刷的一或多个裸片；将针对以所述标称值印刷的所述多个裸片所获取的所述图像与针对以所述经调制值印刷的所述多个裸片所获取的所述图像进行比较；及基于所比较的结果来检测以所述经调制值印刷的所述多个裸片中的缺陷，其中所述获取、所述比较及所述检测是使用计算机系统来执行。
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