[发明专利]滚筒溅射装置有效

专利信息
申请号: 201380044728.8 申请日: 2013-08-21
公开(公告)号: CN104603322B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 上田俊辅;羽场英介 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种滚筒溅射装置,其能够在粒状体整体上均匀地附着靶原子。滚筒溅射装置具备收容粒状体的真空容器(2)、配置在真空容器(2)内且至少一侧端面(10c)开口的筒状的滚筒(10)、以及配置在滚筒(10)内的溅射靶(16),通过支承臂(11)、旋转用驱动电动机(12)、摆动用驱动电动机(13)、第一齿轮构件(14)以及第二齿轮构件(15)使滚筒绕滚筒(10)的轴线旋转,并且以使滚筒(10)的轴线方向上的一侧端部(10e)与另一侧端部(10f)在上下相对调换的方式使滚筒(10)摆动。
搜索关键词: 滚筒 溅射 装置
【主权项】:
1.一种滚筒溅射装置,其中,该滚筒溅射装置具有:真空容器,其收容粒状体;筒状的滚筒,其配置在所述真空容器内,至少一侧端面开口;溅射靶,其配置在所述滚筒内;旋转机构,其使所述滚筒绕所述滚筒的轴线旋转;以及摆动机构,其与基于所述旋转机构的所述滚筒的旋转独立地使所述滚筒摆动,使得所述滚筒的轴线方向上的一侧端部与另一侧端部在上下相对调换,所述摆动机构具有支承臂,该支承臂将所述滚筒枢轴支承为能够绕所述滚筒的轴线旋转,并且将所述滚筒枢轴支承为能够在上下方向上摆动,所述支承臂为从所述真空容器的侧壁延伸的大致L字状的支承臂。
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