[发明专利]用于在多层对象如晶片上进行尺寸测量的装置和方法在审
| 申请号： | 201380044286.7 | 申请日： | 2013-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN104620072A | 公开（公告）日： | 2015-05-13 |
| 发明（设计）人： | 吉莱斯·弗莱斯阔特;西尔万·佩罗 | 申请（专利权）人： | FOGALE纳米技术公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;B24B49/12;G01B11/06;G01N21/95;H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 王春伟;刘继富 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于透过对象(20)、如晶片的表面来定位结构以相对于所述结构布置测量传感器(45、46、47)的成像装置，其包括：(i)成像传感器(22)；(ii)能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的对象(20)的图像的光学成像单元(34)；和(iii)用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其中所述照明单元能够产生照明光束(25、30)，所述照明光束(25、30)的光谱成分适合于所述对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中。本发明还涉及用于在对象(20)、如晶片上进行尺寸测量的系统和方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 多层 对象 晶片 进行 尺寸 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于透过对象(20)、如晶片的表面来定位结构(2、3)以相对于所述结构(2、3)布置测量传感器(45、46、47)的成像装置，其包括：‑成像传感器(22)，‑能够在所述成像传感器(22)上产生在视场中的所述对象(20)的图像的光学成像单元(34)，‑用于产生照明光束(25、30)并以反射方式照亮所述视场的照明单元(23、27)，其特征在于，所述照明单元(23、27)能够产生照明光束(25、30)，所述照明光束(25、30)的光谱成分适合于所述对象(20)的性质以使得所述光束(25、30)的光基本能够射入到所述对象(20)中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于FOGALE纳米技术公司;，未经FOGALE纳米技术公司;许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380044286.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：确定表面波的传播速度
- 下一篇：流路转换阀
