[发明专利]在微分相位对比成像中对齐源光栅到相位光栅距离以用于多阶相位调谐

摘要

本发明涉及处理用于微分相位对比成像的X射线成像系统中的错位。为了提供对用于微分相位对比成像系统中的制造和维护的预调谐和调整要求的降低，提供了一种用于微分相位对比成像的X射线成像系统(10)，其包括微分相位对比设置(12)，所述微分相位对比设置具有X射线源(14)和X射线探测器(16)、包括源光栅(20)、相位光栅(22)和分析器光栅(24)的光栅布置(18)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间。另外，提供了用于在检查中的对象与所述光栅中的至少一个之间的相对移动的移动布置、以及处理单元(32)和用于平移所述源光栅的平移布置(34)。所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供作为刚性干涉仪单元(36)，在所述刚性干涉仪单元中，所述相位光栅和所述分析器光栅平行于彼此被安装。使所述源光栅相对于所述干涉仪单元错位，使得在所述探测器的平面中能检测到莫尔条纹。所述处理单元被配置为在X射线辐射后由所述探测器提供的信号中检测莫尔图样。所述处理单元还被配置为计算平移信号(38)，所述平移信号用于平移所述源光栅以实现预定的莫尔图样。所述平移布置被配置为基于所述平移信号的值至少在X射线投影方向(30)上调整所述源光栅的定位。

主权项

1.一种用于微分相位对比成像的X射线成像系统(10)，包括‑微分相位对比设置(12)，其具有：‑X射线源(14)和X射线探测器(16)；‑光栅布置(18)，其包括源光栅(20)、相位光栅(22)和分析器光栅(24)，其中，所述源光栅被布置在所述X射线源与所述相位光栅之间，并且所述分析器光栅被布置在所述相位光栅与所述探测器之间；以及‑移动布置，其用于在检查中的对象与所述源光栅、所述相位光栅和所述分析器光栅中的至少一个之间的相对移动；‑处理单元(32)；以及‑平移布置(34)，其用于平移所述源光栅；其中，所述相位光栅、所述分析器光栅和所述探测器被提供作为刚性干涉仪单元(36)，在所述刚性干涉仪单元中，所述相位光栅和所述分析器光栅平行于彼此被安装；其中，使所述源光栅相对于所述干涉仪单元错位，使得在所述探测器的平面中能检测到莫尔条纹；其中，所述处理单元被配置为在X射线辐射后由所述探测器提供的信号中检测莫尔图样；以及其中，所述处理单元还被配置为计算平移信号(38)，所述平移信号用于平移所述源光栅以实现预定的莫尔图样；并且其中，所述平移布置被配置为基于所述平移信号的值，至少在所述X射线投影方向(30)上调整所述源光栅的定位，所述平移信号用于使所述源光栅错位，使得在探测器阵列的宽度上的所述莫尔条纹覆盖相位变化的至少2pi。