[发明专利]反射型成像元件和光学系统、以及反射型成像元件的制造方法无效
申请号: | 201380040961.9 | 申请日: | 2013-08-02 |
公开(公告)号: | CN104520747A | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 嶋谷贵文 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | G02B17/00 | 分类号: | G02B17/00;G02B5/00;G02B5/08;G02B27/22 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 反射型成像元件(1)具备:第一反射型元件(11);和配置在第一反射型元件上的第二反射型元件(21)。第一反射型元件和第二反射型元件各自具有多个单位反射型元件叠层而形成的多层结构体。多个单位反射型元件各自具有透光部(1111)、反射层(1113)和配置在透光部与反射层之间的光衰减层(1115)。多个单位反射型元件包括相互相邻的2个单位反射型元件,该2个单位反射型元件以一个单位反射型元件的透光部与另一个单位反射型元件的反射层相邻的方式排列。第一反射型元件中的多个单位反射型元件的叠层方向与第二反射型元件中的多个单位反射型元件的叠层方向相互正交。 | ||
搜索关键词: | 反射 成像 元件 光学系统 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种反射型成像元件,其特征在于,具备:第一反射型元件;和配置在所述第一反射型元件上的第二反射型元件,所述第一反射型元件和所述第二反射型元件各自具有多个单位反射型元件叠层而形成的多层结构体,所述多个单位反射型元件各自具有透光部、反射层和配置在所述透光部与所述反射层之间的光衰减层,所述多个单位反射型元件包括相互相邻的2个单位反射型元件,该2个单位反射型元件以一个单位反射型元件的透光部与另一个单位反射型元件的反射层相邻的方式排列,所述第一反射型元件中的所述多个单位反射型元件的叠层方向与所述第二反射型元件中的所述多个单位反射型元件的叠层方向相互正交。
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