[发明专利]化学镀金处理方法和镀金覆盖材料有效
| 申请号: | 201380037493.X | 申请日: | 2013-07-11 |
| 公开(公告)号: | CN104471109B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
| 发明(设计)人: | 迎展彰 | 申请(专利权)人: | 东洋钢钣株式会社 |
| 主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44;C23C18/48;C23C18/52 |
| 代理公司: | 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙)11406 | 代理人: | 方志炜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明提供一种化学镀金处理方法,该化学镀金处理方法具有如下工序在基材上形成基底合金层的工序;以及使用非氰基系金镀浴、通过化学还原镀直接在所述基底合金层上形成金镀层的工序,该化学镀金处理方法的特征在于,所述基底合金层为M1-M2-M3合金(其中,M1是从Ni、Fe、Co、Cu、Zn和Sn中选择出的至少一种元素,M2是从Pd、Re、Pt、Rh、Ag和Ru中选择出的至少一种元素,M3是从P和B中选择出的至少一种元素。)。 | ||
| 搜索关键词: | 化学 镀金 处理 方法 覆盖 材料 | ||
【主权项】:
一种用于在金属基材的表面形成金镀层的化学镀金处理方法,该化学镀金处理方法具有如下工序:在所述金属基材上形成基底合金层的工序;以及使用非氰基系金镀浴、通过化学还原镀直接在所述基底合金层上形成所述金镀层的工序,该化学镀金处理方法的特征在于,所述基底合金层为M1-M2-M3合金,其中,M1是从Ni、Fe、Co、Cu、Zn和Sn中选择出的至少一种元素,M2是从Pd、Re、Pt、Rh、Ag和Ru中选择出的至少一种元素,M3是从P和B中选择出的至少一种元素,所述M1-M2-M3合金中各元素的比率设为:M1为20原子%~50原子%,M2为30原子%~50原子%,M3为20原子%~30原子%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





