[发明专利]包含非离子性表面活性剂及含有至少一个酸基团的芳族化合物的化学机械抛光(CMP)组合物有效
| 申请号： | 201380036022.7 | 申请日： | 2013-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN104412316B | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | R·赖夏特;Y·李;M·劳特尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | G09G1/02 | 分类号： | G09G1/02;G09G1/14;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 王丹丹,刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒呈茧形，(B)非离子性表面活性剂，(C)包含至少一个酸基团(Y)的芳香化合物或其盐，及(M)水性介质。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 离子 表面活性剂 含有 至少 一个 基团 化合物 化学 机械抛光 cmp 组合 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含(A)无机颗粒、有机颗粒或其混合物或复合物，其中所述颗粒呈茧形，(B)非离子性表面活性剂，(C)包含至少一个直接共价结合至苯环的羧酸(‑COOH)基团及至少一个为羟基的其他官能团(Z)的苯羧酸或其盐，其基于CMP组合物的总重量的量为0.2重量％至3重量％，及(M)水性介质，其中所述组合物的pH值在8至12的范围内。
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