[发明专利]用于将至少一种导电流体沉积到基底上的模型和包括这样的模型的装置以及沉积方法有效
| 申请号： | 201380034809.X | 申请日： | 2013-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN104520109B | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | P.贾弗雷努;B.隆巴德特 | 申请（专利权）人： | 道达尔销售服务公司 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于将导电流体沉积在基底上以在基底(3)上形成导电迹线或接点的模型，其包括用于保持至少一种流体(13)的结构体(11)，所述流体(13)为导电性的并且其粘度对来自光源(5)的辐射敏感。保持用结构体(11)包括用于所述导电流体的至少一个储器(17)，其底壁(19)在沉积期间与所述基底(3)相对地布置且所述底壁(19)具有使得实现所述导电流体(13)在所述流体(13)经受来自所述光源(5)的辐射(15)时流动(18)到基底(3)上的穿孔(21)，其中所述穿孔是根据待沉积在基底(3)上的流体的图案(22)形成的。所述模型(7)进一步包括具有能透过来自所述光源(5)的辐射的图案(30)的光学板(9)，光学板(9)在所述图案(30)之外不能透过来自所述光源(5)的辐射，同时所述光学板(9)上的能透过来自所述光源的辐射的图案(30)与将所述保持用结构体的穿孔的图案(22)覆盖的图案对应。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 至少 一种 导电 流体 沉积 基底 模型 包括 这样 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
用于将导电流体沉积在基底上以在基底(3)上形成导电迹线或接点的模型，其包括用于保持至少一种导电流体(13)的结构体(11)，导电流体(13)具有对用于将所述导电流体(13)沉积在基底(3)上的来自光源(5)的辐射敏感的粘度，其中结构体(11)包括用于所述导电流体(13)的至少一个储器(17)，其底壁(19)旨在在沉积期间面对所述基底(3)放置且其中所述底壁(19)包含容许所述导电流体(13)在所述导电流体(13)暴露于来自所述光源(5)的辐射(15)时流动(18)到基底(3)上的穿孔(21)，穿孔(21)是根据待沉积在基底(3)上的流体的图案(22)制造的，所述模型特征在于，其进一步包括具有能透过来自所述光源(5)的辐射的图案(30)的光学板(9)，光学板(9)在所述图案(30)之外不能透过来自所述光源(5)的辐射并且所述光学板(9)的能透过来自所述光源的辐射的图案(30)与将所述结构体(11)中的穿孔的图案(22)覆盖的图案对应。
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