[发明专利]用于铜互连结构的石墨烯盖有效
| 申请号： | 201380032724.8 | 申请日： | 2013-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104428893B | 公开（公告）日： | 2017-11-28 |
| 发明（设计）人： | G.博尼拉;C.D.迪米特拉科普洛斯;A.格里尔;J.B.汉农;林庆煌;D.A.诺迈耶;种田智;J.A.奥特;D.法伊弗 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L23/532 | 分类号： | H01L23/532;H01L23/535;H01L21/4763 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供了互连结构，该互连结构包括位于铜结构的暴露表面上的石墨烯盖。在一些实施方式中，石墨烯盖仅位于铜结构的最上表面的顶上，而在另一些实施方式中，石墨烯盖设置为沿铜结构的竖直侧壁以及在铜结构的最上表面的顶上。铜结构位于电介质材料内。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 互连 结构 石墨 | ||
【主权项】：
一种互连结构，包括：至少一个铜结构，容纳在存在于电介质材料中的至少一个开口内，所述至少一个铜结构具有与所述电介质材料的最上表面共平面的最上表面；以及石墨烯盖，位于所述至少一个铜结构的所述最上表面的顶上，其中所述石墨烯盖具有与所述至少一个铜结构的边缘竖直地重合的边缘，其中含金属的盖位于所述石墨烯盖与所述至少一个铜结构之间并配置为防止所述至少一个铜结构的腐蚀或氧化。
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