[发明专利]激光照射装置有效
申请号: | 201380024536.0 | 申请日: | 2013-06-28 |
公开(公告)号: | CN105209954B | 公开(公告)日: | 2018-04-17 |
发明(设计)人: | 首藤和正 | 申请(专利权)人: | 住友重机械工业株式会社 |
主分类号: | G02B19/00 | 分类号: | G02B19/00;G02B27/09;H01L21/268;H01L29/66;H01S5/40 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 温旭,郝传鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种激光照射装置。激光二极管沿快轴及慢轴方向二维配置,从而构成半导体激光振荡器。从半导体激光振荡器射出的激光束入射到均化器。均化器在被照射面使激光束聚光到长条的入射区域。均化器在入射区域的短轴方向将激光束分割成多个射束,使被分割的多个射束在被照射面重合并入射到入射区域。半导体激光振荡器的慢轴方向相对于入射区域的长轴方向倾斜。 | ||
搜索关键词: | 激光 照射 装置 | ||
【主权项】:
一种激光照射装置,具有:半导体激光振荡器,沿多个激光棒所堆叠的方向即快轴方向及构成激光棒的多个激光二极管所排列的方向即慢轴方向二维地配置有激光二极管;及均化器,将从所述半导体激光振荡器射出的激光束入射,在被照射面使激光束聚光到长条的入射区域,所述均化器在所述入射区域的短轴方向即Y方向上将所述激光束分割成多个射束,使被分割的多个射束在所述被照射面重合并入射到所述入射区域,所述半导体激光振荡器的慢轴方向相对于所述入射区域的长轴方向即X方向倾斜,在所述均化器的入射位置上,所述激光束的分布在快轴方向上以间距P周期性地显示极大值,用L表示在所述均化器的入射位置上的激光束的射束截面的所述长轴方向的尺寸,用θ表示所述半导体激光振荡器的慢轴方向与所述长轴方向所构成的倾斜角时,倾斜角θ为sin‑1(P/L)的0.5倍~1.5倍的范围内。
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