[发明专利]用于规划辐射处置治疗的系统在审
| 申请号： | 201380016458.X | 申请日： | 2013-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN104246558A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | H·舒尔茨;M·格拉斯;J·萨巴奇恩斯基;T·维克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;A61N5/10;G01T1/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘瑜;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种用于规划辐射处置治疗的系统。在辐射递送期间，光学传感器设备被植入到患者内的风险区域内或非常接近患者内的风险区域的地方。在辐射递送期间，所述传感器设备以光学方式监测所述风险区域的取向以及由所述风险区域接收的辐射剂量。该信息可以被使用以在正在实施正在进行的辐射递送计划的同时适当地实时修改所述计划。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 规划 辐射 处置 治疗 系统 | ||
【主权项】：
一种规划辐射递送系统(400)的操作的方法(700)，其中，所述辐射递送系统包括可移动辐射源(431)，所述可移动辐射源(431)用于将辐射引导并提供到患者(433)内的指定目标区域(432)，所述的规划方法包括：将光学传感器设备(102)植入(761)到所述患者中，即植入到所述患者内的至少一个风险区域内或非常接近所述患者内的至少一个风险区域的地方，所述光学传感器设备包括至少一个取向纤芯和至少一个辐射纤芯，其中，所述至少一个取向纤芯被配置为测量所述光学传感器设备相对于参考点的取向，所述至少一个辐射纤芯被配置为测量由所述光学传感器设备接收的辐射的剂量；在对所述患者进行辐射递送期间以光学方式询问(764)所述至少一个取向纤芯以生成关于所述光学传感器设备的取向信息(765)，并在所述辐射递送期间使用所述取向信息来估计(768)所述光学传感器设备的取向；在所述辐射递送期间以光学方式询问(764)所述至少一个辐射纤芯以生成关于所述光学传感器设备的辐射剂量信息(767)，并在所述辐射递送期间使用所述辐射剂量信息来估计(770)由所述光学传感器设备接收的辐射剂量；并且在所述辐射递送期间监测所估计的取向和所估计的辐射剂量。
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