[发明专利]催化剂、催化剂的制造方法和使用了该催化剂的含氢气体的制造方法、氢发生装置、燃料电池系统、以及负载硅的CeZr系氧化物有效

专利信息
申请号: 201380013313.4 申请日: 2013-03-07
公开(公告)号: CN104159665A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 永冈胜俊;宫崎达郎;矢野拓哉;碇和正;上山俊彦 申请(专利权)人: 国立大学法人大分大学;同和控股(集团)有限公司
主分类号: B01J23/76 分类号: B01J23/76;B01J23/63;C01B3/40;H01M8/06;H01M8/12
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种表现出自发热功能、反应起始温度低、进而即便重复反应也能够抑制碳蓄积的催化剂等。本发明的催化剂的特征在于,其为由CeZr系氧化物、硅、催化活性金属组成的催化剂,前述CeZr系氧化物满足CexZryO2(x+y=1),前述硅满足0.02≤Si/Zr并且0.01<Si/(Ce+Zr+Si)<0.2的摩尔比。该催化剂能够降低用于产生初始的氧缺陷的还原温度,通过催化活性金属,即便在完全不需要加热的20℃左右,也能够进行还原活化处理。另外,在重复的氢发生反应中,由于能够抑制产生的碳在催化剂表面上沉积而防止催化活性的降低,所以能够长期维持催化剂的性能。
搜索关键词: 催化剂 制造 方法 使用 氢气 发生 装置 燃料电池 系统 以及 负载 cezr 氧化物
【主权项】:
一种催化剂,其特征在于,其为由CeZr系氧化物、硅和催化活性金属组成的催化剂,所述CeZr系氧化物满足CexZryO2且x+y=1,所述硅满足0.02≤Si/Zr并且0.01<Si/(Ce+Zr+Si)<0.2的摩尔比。
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