[发明专利]黑矩阵用感光性树脂组合物及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380011626.6 申请日: 2013-02-26
公开(公告)号: CN104145196B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 井户川浩幸;东学;中岛祥人 申请(专利权)人: 新日铁住金化学株式会社
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;C08F290/06;C08F290/14;G02F1/1335;G03F7/004;G03F7/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 柳冀
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种滤色器黑矩阵用感光性树脂组合物,其用于形成高遮光且高电阻的细线图案的黑矩阵,且保存稳定性优异。一种黑矩阵用感光性树脂组合物的制造方法及其感光性树脂组合物,其特征在于,在含有表面被染料包覆而成的染料包覆炭黑、规定的环氧(甲基)丙烯酸酯的酸加合物、分散剂及溶剂的炭黑颜料分散体中添加规定量的含不饱和基团的碱可溶性树脂、具有烯属不饱和键的光聚合性单体、光聚合引发剂及溶剂而调制。
搜索关键词: 矩阵 感光性 树脂 组合 及其 制造 方法
【主权项】:
一种滤色器黑矩阵用感光性树脂组合物的制造方法,其特征在于,预先调制具有下述(A1)~(A4)成分的(A)颜料分散体之后,将含有下述(B)~(E)成分作为必要成分的配合成分与所述(A)颜料分散体进行混合,(A1)预先实施了氧化处理的表面上具有至少1种酸性官能团的炭黑表面被染料包覆之后,由金属或金属盐色淀化而成的染料包覆炭黑,(A2)分散剂,(A3)具有下述通式(I)的构造的含不饱和基团的碱可溶性树脂,(A4)溶剂,(B)含不饱和基团的碱可溶性树脂,(C)具有烯属不饱和键的光聚合性单体,(D)光聚合引发剂,(E)溶剂,通式(I)为使具有由双酚类衍生的2个缩水甘油醚基的环氧化合物和(甲基)丙烯酸的反应物,与(a)二羧酸或三羧酸或任一者的酸单酐和(b)四羧酸或其酸二酐以(a)和(b)的摩尔比为1:10~10:1的方式反应而得到的环氧(甲基)丙烯酸酯的酸加合物;在此,式中,R1、R2、R3及R4分别独立地表示氢原子、碳原子数1~5的烷基、卤素原子或苯基,R5表示氢原子或甲基,A表示‑CO‑、‑SO2‑、‑C(CF3)2‑、‑Si(CH3)2‑、‑CH2‑、‑C(CH3)2‑、‑O‑、9,9‑芴基或直接键合,X表示4价的羧酸残基,Y1及Y2分别独立地表示氢原子或‑OC‑Z‑(COOH)m,其中Z表示2价或3价羧酸残基,m表示1~2的数,n表示1~20的整数。
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