[发明专利]微晶结构分析装置、微晶结构分析方法和X射线遮蔽装置有效

专利信息
申请号: 201380008173.1 申请日: 2013-02-06
公开(公告)号: CN104105959A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 木村恒久;木村史子;坪井千明 申请(专利权)人: 国立大学法人京都大学
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20
代理公司: 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 代理人: 刘昕
地址: 日本国京都府京*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种微晶结构分析装置、微晶结构分析方法和X射线遮蔽装置,借此即使在伪单晶样本旋转的同时用X射线照射该样本也能够获得良好的X射线衍射图像。该微晶结构分析装置(1)包括:磁场发射单元(12);样本驱动单元(13),其相对于磁场发射单元(12)旋转;样本容器(2),其容纳有其中悬浮了微晶(3)的样本,使得随时间波动的磁场被施加到样本容器(2)并且微晶(3)被三维取向;X射线源(21),其用X射线(a)来照射被样本驱动单元(13)驱动而旋转的样本容器(2);X射线检测器单元(23),其能够检测穿过样本容器(2)并被衍射的X射线(a);和状态切换装置(G),其根据作为所述样本容器(2)的一部分的特定场所(2a)在旋转方向上的位置,在X射线(a)不能被X射线检测器单元(23)检测到的状态与X射线(a)可以被X射线检测器单元(23)检测到的状态之间切换。
搜索关键词: 结构 分析 装置 方法 射线 遮蔽
【主权项】:
一种微晶结构分析装置,其特征在于,包括:磁场发生单元;样本驱动单元,其使其中悬浮有微晶的样本相对于所述磁场发生单元旋转,从而将时变磁场施加到所述样本上,以对所述微晶进行三维取向;X射线源,其将X射线照射到被所述样本驱动单元驱动而旋转的所述样本上;和X射线检测单元,其能够检测穿过所述样本并被所述样本衍射的X射线,所述微晶结构分析装置还包括状态切换装置,其根据作为所述样本的一部分的特定部分在其旋转方向上的旋转位置,在不能进行基于所述X射线检测单元的X射线检测的状态和能够进行基于所述X射线检测单元的X射线检测的状态之间切换。
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