[发明专利]无电镀镍浴有效

专利信息
申请号: 201380007827.9 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN104136658B 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: C.C.费尔斯;B.迪尔布施 申请(专利权)人: 安美特德国有限公司
主分类号: C23C18/36 分类号: C23C18/36;C23C18/54;C23C18/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐晶;杨思捷
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及适合在塑性工艺上镀覆应用的无电镀镍浴。所述镀浴不含诸如铅离子和氨的危险物质,且允许镍磷合金在不高于55℃的镀覆温度下沉积在塑料底材上。此外,从浸渍型镀铜浴沉积铜到镍磷涂层上不需要活化步骤,这使得加工步骤减少且减少废水产生。
搜索关键词: 电镀
【主权项】:
用于沉积具有4‑11重量%的磷含量的镍磷合金的无氨且无铅的无电镀镍浴,其包含:i. 镍离子源;ii. 次磷酸根离子源;iii. 络合剂混合物,其包含:a) 选自羟基羧酸、二羟基羧酸及其盐的至少一种第一络合剂和b) 选自亚氨基琥珀酸、亚氨基二琥珀酸、其盐和衍生物的至少一种第二络合剂;iv. 稳定剂混合物,其包含:a) 铋离子,和b) 选自巯基苯甲酸、巯基羧酸和巯基磺酸及其盐的至少一种化合物;其中,所述至少一种第一络合剂的浓度为1g/l‑50g/l,所述至少一种第二络合剂的浓度为0.2g/l‑10g/l,铋离子的浓度为0.5mg/l‑100mg/l,所述巯基苯甲酸、巯基羧酸和巯基磺酸或其盐的浓度为0.1mg/l‑100mg/l。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安美特德国有限公司,未经安美特德国有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380007827.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top