[发明专利]无电镀镍浴有效
申请号: | 201380007827.9 | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN104136658B | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | C.C.费尔斯;B.迪尔布施 | 申请(专利权)人: | 安美特德国有限公司 |
主分类号: | C23C18/36 | 分类号: | C23C18/36;C23C18/54;C23C18/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐晶;杨思捷 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及适合在塑性工艺上镀覆应用的无电镀镍浴。所述镀浴不含诸如铅离子和氨的危险物质,且允许镍磷合金在不高于55℃的镀覆温度下沉积在塑料底材上。此外,从浸渍型镀铜浴沉积铜到镍磷涂层上不需要活化步骤,这使得加工步骤减少且减少废水产生。 | ||
搜索关键词: | 电镀 | ||
【主权项】:
用于沉积具有4‑11重量%的磷含量的镍磷合金的无氨且无铅的无电镀镍浴,其包含:i. 镍离子源;ii. 次磷酸根离子源;iii. 络合剂混合物,其包含:a) 选自羟基羧酸、二羟基羧酸及其盐的至少一种第一络合剂和b) 选自亚氨基琥珀酸、亚氨基二琥珀酸、其盐和衍生物的至少一种第二络合剂;iv. 稳定剂混合物,其包含:a) 铋离子,和b) 选自巯基苯甲酸、巯基羧酸和巯基磺酸及其盐的至少一种化合物;其中,所述至少一种第一络合剂的浓度为1g/l‑50g/l,所述至少一种第二络合剂的浓度为0.2g/l‑10g/l,铋离子的浓度为0.5mg/l‑100mg/l,所述巯基苯甲酸、巯基羧酸和巯基磺酸或其盐的浓度为0.1mg/l‑100mg/l。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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