[实用新型]高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜有效
申请号: | 201320858290.4 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN204011441U | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 瞿辉;徐春;曹玉甲;张一源 | 申请(专利权)人: | 江苏顺风光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 213000 江苏省常州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜,所述钝化减反射膜底层为SiO2层1,折射率为1.45-1.58,厚度为2-30nm,中间层为高折射率钝化SiNx层,折射率为2.00-2.40,厚度为2-30nm,顶层为电性能优化SiNx层,折射率为1.90-2.25,厚度为4-50nm。该高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜既可以优化多晶硅电池的电性能,又可以从电池端有效地降低PID衰减,可以提高转换效率15-20%,具有较大的经济效益。 | ||
搜索关键词: | 高效 pid free 太阳能 多晶 电池 钝化 减反射膜 | ||
【主权项】:
一种高效PID Free的太阳能多晶硅电池的钝化减反射膜,其特征在于:所述钝化减反射膜底层为SiO2层(1),SiO2层(1)折射率为1.45‑1.58,厚度为8‑20nm,钝化减反射膜中间层为高折射率钝化SiNx层(2),高折射率钝化SiNx层(2)折射率为2.00‑2.40,厚度为2‑30nm,钝化减反射膜顶层为电性能优化SiNx层(3),电性能优化SiNx层(3)折射率为2.0‑2.25,厚度为4‑50nm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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