[实用新型]一种火山型掩膜版及其图形化衬底有效
| 申请号： | 201320709142.6 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN203616577U | 公开（公告）日： | 2014-05-28 |
| 发明（设计）人： | 商毅博;缪炳有;韩沈丹;胡丹;王岩 | 申请（专利权）人： | 西安神光安瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26;H01L33/20 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 倪金荣 |
| 地址： | 710100 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种火山型掩膜版，包括光刻板，光刻板上设置环形阵列单元，环形阵列单元包括多个火山型单元，火山型单元两两之间距离相等。本实用新型的火山型掩膜版及其图形化衬底，以便利用火山型掩膜版简化图形化衬底的制造流程、降低成本的同时，避免量产时由于光刻图形套刻无法准确控制所造成的刻蚀后形貌差异、甚至变形所带来的片间重复性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 火山 型掩膜版 及其 图形 衬底 | ||
【主权项】：
一种火山型掩膜版，包括光刻板，其特征在于：所述光刻板上设置环形阵列单元，所述环形阵列单元包括多个火山型单元，所述火山型单元两两之间距离相等。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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