[实用新型]一种气体反应器内压强控制装置有效
| 申请号： | 201320238584.7 | 申请日： | 2013-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN203238325U | 公开（公告）日： | 2013-10-16 |
| 发明（设计）人： | 袁方园 | 申请（专利权）人： | 袁方园 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 262700 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及薄膜制备设备领域，具体地来说为用于制备薄膜的气体反应器内压强控制装置。包括处理器、输入按键、流量传感器、流量控制器以及与流量控制器连接的进气阀门，其中流量传感器与处理器的输入端连接，流量控制器与处理器的输出端连接，处理器的输入端还连接有输入按键。具有结构简单，操控性强，全自动调节等优点。适用于各种物理、化学气相沉积以及磁控溅射等设备中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气体 反应器 压强 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种气体反应器内压强控制装置，其特征在于，包括处理器、输入按键、流量传感器、流量控制器以及与流量控制器连接的进气阀门，其中流量传感器与处理器的输入端连接，流量控制器与处理器的输出端连接，处理器的输入端还连接有输入按键。
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