[发明专利]用于低温应用的离子型热酸生成剂有效
| 申请号： | 201310757277.4 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103852973B | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | G·珀勒斯;刘骢;C-B·徐;K·罗威尔;I·考尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 胡嘉倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新的离子型热酸生成剂组合物。同样提供了光刻胶组合物、抗反射涂覆组合物，和化学修整外涂层组合物，和使用这些组合物的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 低温 应用 离子 型热酸 生成 | ||
【主权项】：
1.一种提供光刻胶浮雕图案的方法，包括a)将化学增强的光刻胶组合物的涂层施用于在基材上；b)将光刻胶层曝光于活化辐射并将曝光的光刻胶层显影以提供光刻胶浮雕图像；c)将包含由下式(I)表示的热酸生成剂的化学修整外涂层组合物的涂层施用于曝光后的光刻胶组合物涂层；(A‑)(BH)+ 式(I)其中A‑是pKa值不大于3的有机或无机酸阴离子；并且(BH)+是单质子化形式的含氮碱B，其具有0至5.0之间的pKa，和小于170℃的沸点；d)加热所述化学修整外涂层组合物层；并且e)将所述光刻胶层显影以提供光刻胶浮雕图案。
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