[发明专利]滤光片的制作方法及曝光掩膜板在审
| 申请号： | 201310747120.3 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104749674A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 张莉;唐文静;范刚洪;陈颖明 | 申请（专利权）人： | 上海仪电显示材料有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02F1/1335;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种滤光片的制作方法及曝光掩膜板。所述滤光片的制作方法包括提供基板；在基板上形成网状结构的黑色矩阵，黑色矩阵存在开口且露出基板表面；在基板和黑色矩阵表面形成负性的光阻材料；采用曝光掩膜板对光阻材料进行曝光处理，使光阻材料与黑色矩阵交叠的区域接收到的曝光量小于其余开口区域接收到的曝光量；对曝光后的光阻材料进行显影处理，以形成光阻层。所述曝光掩膜板用于上述滤光片的制作方法，包括遮光区和曝光区，所述遮光区中与所述曝光区接触的边缘位置设置有多个凸起结构。本发明可以减小或消除光阻层中的牛角，防止由于牛角过厚造成液晶偏转不良，影响滤光片以及液晶显示器的显示性能，进一步的还可以降低滤光片的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光 制作方法 曝光 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种滤光片的制作方法，其特征在于，包括：提供基板；在所述基板上形成网状结构的黑色矩阵，所述黑色矩阵存在开口且露出所述基板表面；在所述基板和所述黑色矩阵表面形成负性的光阻材料；采用曝光掩膜板对所述光阻材料进行曝光处理，使所述光阻材料与所述黑色矩阵交叠的区域接收到的曝光量小于其余开口区域接收到的曝光量；对曝光后的所述光阻材料进行显影处理，以形成光阻层。
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