[发明专利]反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明涉及反应腔室及等离子体加工设备，包括腔室顶壁、冷却单元和测温单元；冷却单元用于向腔室顶壁喷淋冷却水；测温单元包括温度传感器和环形挡板，腔室顶壁上设有透明窗口，温度传感器设于腔室顶壁上方，且与透明窗口相对应的位置处，用以透过透明窗口检测反应腔室的内部温度；环形挡板用于将透明窗口与冷却水隔离，以防止冷却水流入透明窗口上，在环形挡板内周壁上设有环绕内周壁一周的凹部，且凹部开口向上倾斜；在凹部内设有排水孔，用以将流入凹部的冷却水排出。上述反应腔室可使溅入到环形挡板内周壁上的冷却水沿环形挡板内周壁流入到凹部内，并经排水口排出，从而避免了冷却水流入到透明窗口上，对温度传感器的检测准确性造成不良影响。

主权项

一种反应腔室，包括腔室顶壁、冷却单元和测温单元，其中，所述冷却单元用于通过朝向所述腔室顶壁喷淋冷却水对反应腔室进行冷却；所述测温单元包括温度传感器和环形挡板，在所述腔室顶壁上设置有透明窗口，所述温度传感器设置在所述腔室顶壁上方，且与所述透明窗口相对应的位置处，用以透过透明窗口检测反应腔室的内部温度；所述环形挡板用于将所述透明窗口与冷却水相隔离，以防止冷却水流入所述透明窗口上，其特征在于，在所述环形挡板的内周壁上设有环绕所述内周壁一周的凹部，且所述凹部的开口向上倾斜；并且，在所述凹部内设有排水孔，用以将流入所述凹部的冷却水排出。