[发明专利]一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置

摘要

本发明提出一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置，包括腔体结构、气体供给装置、泵组以及监测装置，其中，气体供给装置可存放、净化处理气体，并调节控制气体质量流量；泵组可对腔体结构抽真空，维持腔体结构真空环境；监测装置用于监测腔体结构真空度、腔体结构内组分的分压，其特征在于：所述腔体结构包括主腔室、工件台腔室以及连接通道，所述各腔室之间相互隔离，连接通道两端分别采用可拆密封连接于主腔室和工件台腔室。本发明的极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置可运用于EUV辐射光刻设备中，有效控制光源腔、主腔室及工件台腔室的环境。采用气流隔离的方式，有效防止了不同设备区的交叉污染，起到保护设备的作用；同时，这种气流隔离的密封方式，可有效提高光束的透射率。

主权项

1.一种极紫外光刻设备投影系统的环境控制装置，包括腔体结构、气体供给装置、泵组以及监测装置，其中，气体供给装置可存放、净化处理气体，并调节控制气体质量流量；泵组可对腔体结构抽真空，维持腔体结构真空环境；监测装置用于监测腔体结构真空度、腔体结构内组分的分压，其特征在于：所述腔体结构包括主腔室、工件台腔室以及连接通道，所述各腔室之间相互隔离，连接通道两端分别可拆密封连接于主腔室和工件台腔室，所述主腔室具有抽排口，位于主腔室的腔壁使腔内的气流远离投影系统的镜片的位置；所述工件台腔室具有抽排口以及惰性气体管道，所述抽排口与惰性气体管道相对设置；所述惰性气体管道位于所述工件台腔室内部，进气口连接于腔体壳体，排气口连接于通光孔处；所述抽排口低于所述惰性气体管道；所述惰性气体管道下壁高于硅片表面1‑10mm。