[发明专利]用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法

摘要

用于薄膜气相沉积的掩模组件及其制造方法被提供。掩模组件包括用于形成开口的框架和在张力被施加到其上时被固定到框架并形成多个图案开口的掩模。框架包括用于形成开口的框架主体和被安装在框架主体上沿至少一个方向可移动的多个移动构件。掩模在张力被施加到其上时被固定到移动构件。

主权项

1.一种掩模组件，包括：包括形成开口的框架主体和被安装在所述框架主体中的多个移动构件的框架，所述多个移动构件的每一个沿至少一个方向能移动；和包括多个图案开口并被固定到所述多个移动构件的掩模，其中所述掩模沿第一方向和与所述第一方向相交的第二方向扩展，并被固定到所述多个移动构件，并且所述至少一个方向平行于所述第一方向或所述第二方向，其中所述框架主体包括平行于所述第一方向的一对第一直边部和平行于所述第二方向的一对第二直边部，并且所述多个移动构件对于所述一对第一直边部和所述一对第二直边部被提供，并且所述多个移动构件中的每一个的移动方向和位移被独立控制，其中所述多个移动构件的每一个包括：包括掩模固定侧的掩模固定单元；和被安装在所述框架主体和所述掩模固定单元之间并分别沿所述第一方向和所述第二方向移动所述掩模固定单元的第一移动控制器和第二移动控制器。