[发明专利]用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物在审
| 申请号： | 201310661058.6 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103911158A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 权五炳;金童基;李智娟 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 杨黎峰;石磊 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物。所述用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物包括硝酸、盐酸、有机酸和余量的水，所述组合物能够快速且均匀地蚀刻金属氧化物层（透明的氧化物半导体），提高布线的平直度，且制备简单、容易控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 氧化物 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种用于金属氧化物层的蚀刻剂组合物，包括：硝酸HNO3、盐酸HCl、有机酸、和余量的水。
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