[发明专利]一种高离子选择性中空纤维纳滤膜的制造方法在审
申请号: | 201310653021.9 | 申请日: | 2013-12-04 |
公开(公告)号: | CN103611430A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 王晓磊;魏俊富;段锋;刘娜娜;刘凯 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | B01D69/08 | 分类号: | B01D69/08;B01D71/68;B01D67/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300160*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种高离子选择性中空纤维纳滤膜的制造方法,该方法包括以下步骤:首先聚砜中空纤维超滤膜在低温空气等离子体中进行刻蚀反应,提高基膜表面的亲水性,然后浸泡在2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸单体溶液中一定时间,取出干燥后置于低温空气等离子体中进行辐照接枝反应,超声波清洗后即得中空纤维纳滤膜。本发明的优点在于:利用低温空气等离子体刻蚀,实现了难接枝单体2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸在疏水聚砜膜表面的接枝;所制备的纳滤膜具有高的离子选择性,且所需操作压力低,减少耗能,可应用在水的软化、饮用水净化、染料废水处理、药物提纯等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 选择性 中空 纤维 滤膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种高离子选择性中空纤维纳滤膜的制造方法,其特征在于包含如下步骤:a)中空纤维基膜在真空度为20kPa~80kPa的低温空气等离子体中进行辐照刻蚀反应,照射时间为10s~300s,功率为20W~80W;b)将步骤a)刻蚀过的基膜浸泡在2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸单体浓度为3%~50%的乙醇/水混合溶液中5min~30min,其中乙醇与水的体积比为1/9~1/1;c)将步骤b)中的浸渍膜取出,置于温度为15℃~50℃的烘箱中干燥0.5h~4h;d)将步骤c)中的干燥膜置于真空度为20kPa~80kPa的低温空气等离子体中进行辐照接枝反应,接枝时间为10s~300s,功率为20W~80W;e)将步骤d)中的接枝膜在超声波清洗器中超声清洗10s~120s除去未反应的单体及均聚物,即得所述的高离子选择性中空纤维纳滤膜。
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