[发明专利]电极结构及制备方法、阵列基板及制备方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201310651938.5 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN103676354A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 张敏;金玟秀 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1368;H01L23/50;H01L21/77
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;陈源
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种电极结构及制备方法、阵列基板及制备方法和显示装置。该电极结构包括引入电极和本体电极,引入电极与本体电极之间设置有第一隔离层和第二隔离层,第一隔离层中开设有第一过孔、第二隔离层中开设有第二过孔,第一过孔的孔轴和第二过孔的孔轴在同一直线,引入电极依次通过第一过孔和第二过孔与本体电极电连接,第一过孔的直径小于第二过孔的直径,第一隔离层还延伸至覆盖第二过孔的孔壁。该电极结构通过使第一隔离层将第二隔离层中第二过孔的孔壁完全覆盖,从而使第二隔离层中第二过孔的孔壁不会遭到损坏,进而确保引入电极与本体电极能够很好地电连接,保证了信号的正常引入。
搜索关键词: 电极 结构 制备 方法 阵列 显示装置
【主权项】:
一种电极结构,包括引入电极和本体电极,所述引入电极与所述本体电极之间设置有第一隔离层和第二隔离层,所述第一隔离层中开设有第一过孔、所述第二隔离层中开设有第二过孔,所述第一过孔的孔轴和所述第二过孔的孔轴在同一直线,所述引入电极依次通过所述第一过孔和所述第二过孔与所述本体电极电连接,在其特征在于:所述第一过孔的直径小于所述第二过孔的直径,所述第一隔离层还延伸至覆盖所述第二过孔的孔壁。
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