[发明专利]一种无电镀金属化的方法有效
申请号: | 201310637391.3 | 申请日: | 2013-09-30 |
公开(公告)号: | CN103774122B | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | M·A·热兹尼克;P·D·克努森;王雪松;M·W·贝叶斯;蔡育勋 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种无电镀金属化的方法,具体公开一种在不导电材料的表面形成聚合物膜和随后在该表面形成无电镀金属镀膜的方法。该方法包括将材料的表面与溶液反应的步骤,溶液包括含有至少两个官能团的胺化合物(A),其中至少一个官能团是氨基,和含有至少一个位于芳环上的羟基的芳香族化合物(B)。 | ||
搜索关键词: | 一种 电镀 金属化 方法 | ||
【主权项】:
一种在材料的表面上形成聚合膜的方法,该方法包括:在Pd/Sn胶体催化剂存在下,通过将材料与溶液相接触来施加溶液,该溶液包含(A)二胺,和(B)二羟基苯基化合物,其中(A)和(B)的摩尔比为4:1至1:1;以及在所述材料表面进行无电镀金属镀覆,其中,(A)二胺具有以下分子式1a、2a或3a,并且溶液中(A)二胺的量为2mmol/L至2000mmol/L:分子式1aH2N‑R1‑NH2其中Rl选自由C1‑C24直链或支链型亚烷基和芳香族亚烷基组成的组;分子式2aH2N‑R1‑NH‑R2‑NH2其中Rl和R2分别选自由C1‑C24直链或支链型亚烷基和芳香族亚烷基组成的组;分子式3a其中Rl、R2和R3分别选自由C1‑C20直链或支链型亚烷基和芳香族亚烷基组成的组;以及其中,(B)二羟基苯基化合物具有以下分子式1b,并且溶液中(B)二羟基苯基化合物的量为2mmol/L至2000mmol/L:分子式1b其中R8选自由H、CH3、OH、苯基、CN,NO2、丙酸、乙胺、甲酸和甲醛组成的组,R9和R10分别选自H和OH;以及其中,该溶液的溶剂为水,或者水和有机溶剂的混合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限公司,未经罗门哈斯电子材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310637391.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种拌种剂
- 下一篇:一种非接触式光刻机的晶圆校准水平装置及其应用
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理