[发明专利]利用掩模对准系统进行工件台基准板旋转探测的方法

摘要

本发明公开一种利用掩模对准系统进行工件台基准板旋转探测的方法，用于探测该工件台基准板相对于掩模版的Rx、Ry及Rz旋转量，其特征在于，包括：将掩模版或掩模基准板上的标记经过一投影系统成像至该工件台基准板的标记上；对掩模版或掩模基准板上的标记进行垂直水平向扫描，计算该工件台基准板的标记的垂向对准位置以获得Rx、Ry旋转量；对该工件台基准板的标记进行水平向扫描，根据该工件台基准板的标记的对准位置之差以获得Rz旋转量。

主权项

一种利用掩模对准系统进行工件台基准板旋转探测的方法，用于探测所述工件台基准板相对于掩模版的Rx、Ry及Rz旋转量，其特征在于，包括：将掩模版或掩模基准板上的标记经过一投影系统成像至所述工件台基准板的标记上；所述工件台基准板的标记包括归一化标记grid和4个光栅标记gxh、gyh、gxv、gxv，其中gxh和gyh为XY平面上的X方向上以间距L分布在归一化标记grid左右的标记，gxv和gyv为XY平面上与X方向垂直的Y方向上以间距L分布在归一化标记grid上下的标记；所述掩模版或掩模基准板上的标记也包括归一化标记；对所述掩模版或掩模基准板上的标记进行垂直水平向扫描，具体如下：步骤1，使用所述掩模对准系统对所述掩模版或掩模基准板上的归一化标记进行水平向扫描；步骤2、获取水平向扫描过程中的光强与位置数据，并根据所述光强与位置数据获得水平向的对准位置A(X、Y)；步骤3、使所述工件台基准板的归一化标记移动至所述步骤2中的对准位置A(X、Y)，在保证A(X、Y)不变的情况下，进行与水平向垂直的Z向扫描；步骤4、获取Z向扫描过程中的光强与位置数据，并根据所述光强与位置数据获得Z向的对准位置B(Z)；计算所述工件台基准板的标记的垂向对准位置以获得Rx、Ry旋转量，具体如下：在步骤3中所述工件台基准板的归一化标记进行Z向扫描时，收集工件台基准板的光栅标记gxh、gyh、gxv、gxv的光强及位置数据，经过拟合处理后可以得到这4个标记所探测到的焦面位置，分别为Zgxh，Zgyh，Zgxv，Zgyv，由此可以通过以下公式求得所述工件台基准板相对于掩模版的Rx、Ry旋转量：Rx＝(Zgxh‑Zgyh)/k，Ry＝(Zgxv‑Zgyv)/k，k＝2L；对所述工件台基准板的标记进行水平向扫描，根据所述工件台基准板的标记的对准位置之差以获得Rz旋转量，具体如下：在步骤1中对掩模版或掩模基准板上的归一化标记进行水平向扫描时，分别获取所述工件台基准板上的光栅标记gyh和归一化标记扫描时的光强与位置数据，进行拟合后得出对准位置Xgyh，Xgrid，计算对准位置之差ΔX，使用下列公式求得所述工件台基准板相对于掩模版的Rz旋转量：Rz＝arcos[(L‑ΔX)/L]；同样，也可获取所述工件台基准板上的光栅标记gxv和归一化标记扫描时的光强与位置数据，根据以上公式求得Rz。