[发明专利]石英晶体频率片清洗工艺在审
| 申请号： | 201310625361.0 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103701423A | 公开（公告）日： | 2014-04-02 |
| 发明（设计）人： | 谢小东 | 申请（专利权）人： | 铜陵日科电子有限责任公司 |
| 主分类号： | H03H3/02 | 分类号： | H03H3/02 |
| 代理公司： | 安徽信拓律师事务所 34117 | 代理人： | 鞠翔 |
| 地址： | 244000 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种石英晶体频率片清洗工艺，包括以下工艺步骤，1）将石英晶体频率片放入一道清洗机中，在清洗水中加入中性的表面活性剂，清洗10-20分钟；2）捞出，沥干水，放入二道清洗机，在二道清洗机中加入浓度为18%、温度为60-80℃的碱液，清洗10-20分钟；3）捞出，沥干水，放入三道清洗机，在三道清洗机中加入弱酸性清洗溶液，清洗10-20分钟；4）捞出，沥干水，放入四道清洗机，用纯水喷淋的方式清洗1-10分钟，捞出，沥干水即可。本发明工艺步骤简单，操作方便，用水量小，且清洗后的废水可循环使用，有效节约水资源，清洗效果佳，能够有效提高石英晶体频率片的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 石英 晶体 频率 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
一种石英晶体频率片清洗工艺，其特征在于：包括以下工艺步骤，1）将石英晶体频率片放入一道清洗机中，在清洗水中加入中性的表面活性剂，清洗10‑20分钟；2）捞出，沥干水，放入二道清洗机，在二道清洗机中加入浓度为18%、温度为60‑80℃的碱液，清洗10‑20分钟；3）捞出，沥干水，放入三道清洗机，在三道清洗机中加入弱酸性清洗溶液，清洗10‑20分钟；4）捞出，沥干水，放入四道清洗机，用纯水喷淋的方式清洗1‑10分钟，捞出，沥干水即可。
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