[发明专利]图案化介质及其制造方法无效
| 申请号： | 201310563617.X | 申请日： | 2013-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN103680527A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | K·鲁宾;R·鲁兹;J·利尔;L·万 | 申请（专利权）人： | HGST荷兰公司 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/72 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了图案化介质及其制造方法。该方法包括：提供在光刻图案化表面层下具有外部层的衬底，光刻图案化表面层包括第一区域中的第一图案和第二区域中的第二图案；在第一区域上涂敷第一掩模材料；转移第二图案至第二区域中的外部层内；在光刻图案化表面层上形成自组装嵌段共聚物结构，自组装嵌段共聚物结构与第一区域中的第一图案对齐；在第二区域上涂敷第二掩模材料；转移聚合物链段图案至第一区域中的外部层内；按照转移至第二区域中的外部层的第二图案和转移至第一区域中的外部层的聚合物链段图案蚀刻衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造图案化介质的方法，包括：提供在光刻图案化表面层下面具有外部层的衬底，该光刻图案化表面层包括第一区域中的第一图案和第二区域中的第二图案；在所述第一区域上涂敷第一掩模材料；转移所述第二图案至所述第二区域中的所述外部层内；去除所述第一掩模材料；在所述光刻图案化表面层上形成自组装嵌段共聚物结构，所述自组装嵌段共聚物结构与所述第一区域中的所述第一图案对齐且包括聚合物链段图案；在所述第二区域上涂敷第二掩模材料；转移所述聚合物链段图案至所述第一区域中的所述外部层内；去除所述第二掩模材料和所述自组装嵌段共聚物结构；以及按照转移至所述第二区域中的所述外部层的所述第二图案和转移至所述第一区域中的所述外部层的所述聚合物链段图案蚀刻所述衬底。
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