[发明专利]一种用于制备α_SiH膜的设备

摘要

本发明公开了一种用于制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室，在所述真空室内设有基片安装座，基片设置在所述基片安装座上，在所述真空室上连接有Si2H6进气管，在所述的真空室上设有石英管，在所述的石英管上设有微波源，在所述石英管一端上设有H2进气管，在所述的真空室上设有真空泵连接管。本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本低，用于制备α_SiH膜的设备。

主权项

一种用于制备α_SiH膜的设备，其特征在于：包括有真空室（1），在所述真空室（1）内设有基片安装座（2），基片（3）设置在所述基片安装座（2）上，在所述真空室（1）上连接有Si2H6进气管（4），在所述的真空室（1）上设有石英管（5），在所述的石英管（5）上设有微波源（6），在所述石英管（5）一端上设有H2进气管（7），在所述的真空室（1）上设有真空泵连接管（8），所述基片安装座（2）设置在与所述石英管（5）正对的位置上。