[发明专利]一种发光二极管有效
申请号: | 201310551520.7 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103594589A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 张翠 | 申请(专利权)人: | 溧阳市江大技术转移中心有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/40 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 黄明哲 |
地址: | 213300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种GaN基发光二极管,包括:反射电极(1)、衬底(2)、非掺杂GaN或AlN缓冲层(3)、n型GaN层(4)、有源层(5)、p型GaN接触层(6)、p型AlGaN覆盖层(7)、ITO透明电极层(8),其中ITO透明电极层(8)具有开口,该开口贯穿ITO透明电极层(8)且开口底部位于p型AlGaN覆盖层(7)中,开口的底部和侧壁上的金属阻挡层(14),开口中的金属阻挡层(14)上的多层p接触电极(9-12)以及其上的键合引线(13)。本发明的GaN基发光二极管具有优良的电特性以及发光效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种GaN基发光二极管,包括:衬底(2);形成于衬底(2)背面的反射电极(1),其用作n接触电极;形成于衬底(2)正面上的非掺杂GaN或AlN缓冲层(3);形成于非掺杂GaN或AlN缓冲层(3)上的GaN基外延层发光结构;形成在GaN基外延层发光结构上的ITO透明电极层(8),其中ITO透明电极层(8)具有开口,该开口贯穿ITO透明电极层(8)且开口底部位于GaN基外延层发光结构的p型AlGaN覆盖层(7)中;形成在开口的底部和侧壁上的金属阻挡层(14);形成在金属阻挡层(14)上的多层p接触电极(9‑12);以及形成在多层p接触电极(9‑12)上的键合引线(13)。
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