[发明专利]曝光系统与曝光工艺

摘要

本发明揭露一种曝光系统与曝光工艺。其中，曝光系统是对一组立液晶面板进行曝光工艺。组立液晶面板具有一应连续曝光时间。曝光系统包括一光源装置、一快门装置以及一控制装置。光源装置可发射一光线照射于组立液晶面板。快门装置位于光线的光路径上。控制装置控制光源装置或快门装置，进而控制照射于组立液晶面板的光源照度，控制装置令组立液晶面板于曝光工艺中具有多个接受第一光源照度的第一曝光时间与多个接受第二光源照度的第二曝光时间，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间交错排置，该等第一曝光时间与该等第二曝光时间的加总实质等于应连续曝光时间。

主权项

一种曝光系统，其特征在于，对一组立液晶面板进行一曝光工艺以令液晶中的光反应单体聚合成可控制液晶排列的高分子配向层，所述曝光系统包括：一光源装置，可发射一光线照射于所述组立液晶面板；一快门装置，设置于所述光源装置与所述组立液晶面板之间，并位于所述光线的光路径上；以及一控制装置，与所述光源装置及所述快门装置电性连接，所述控制装置控制所述光源装置或所述快门装置，进而控制所述曝光工艺中光线照射于所述组立液晶面板的光源照度，所述控制装置令所述组立液晶面板于所述曝光工艺中具有多个接受第一光源照度的第一曝光时间与多个接受第二光源照度的第二曝光时间，所述第一光源照度不同于所述第二光源照度且所述第一曝光时间与所述第二曝光时间交错排置，所述第一曝光时间与所述第二曝光时间的加总实质等于一应连续曝光时间，其中，所述应连续曝光时间是以所述光线连续照射令所述液晶中的光反应单体聚合至一预定转化率的时间，且所述预定转化率范围为80%～100%。