[发明专利]透镜阵列及其制造方法有效
申请号: | 201310545548.X | 申请日: | 2013-11-06 |
公开(公告)号: | CN104076416B | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 安田晋;清水敬司 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;G02B27/22;B29D11/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 顾红霞,何胜勇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种透镜阵列及其制造方法,该透镜阵列包括多个透镜;其中,每个透镜具有第一方向上的曲率和第二方向上的曲率,所述第二方向不同于所述第一方向,所述第一方向上的曲率和所述第二方向上的曲率彼此不同。 | ||
搜索关键词: | 透镜 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种制造透镜阵列的方法,包括:形成基板,其中形成透镜周边的第一部分的第一分隔壁的高度与形成透镜周边的第二部分的第二分隔壁的高度彼此不同;将液态聚合物填充到所述基板上的所述第一分隔壁和所述第二分隔壁包围的区域中;以及使所述聚合物固化,从而形成所述透镜,其中,通过利用刀片分别在第一方向上和不同于所述第一方向的第二方向上切割沟槽,在所述基板上形成所述第一分隔壁和所述第二分隔壁,并且通过所述刀片在所述基板上的切割深度来控制所述第一分隔壁和所述第二分隔壁的高度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310545548.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:平面衍射光学元件透镜及其制造方法
- 下一篇:透镜阵列以及透镜阵列制造方法