[发明专利]一种位置可调的分立平面环形F-P腔无效

专利信息
申请号: 201310537706.7 申请日: 2013-11-04
公开(公告)号: CN103744175A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 彭瑜 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;H01S5/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种位置可调的分立平面环形F-P腔,属于外腔半导体激光器技术领域。具体包括第一高反射膜、第二高反射膜、第一基底、第二基底和待测反射膜;光线入射到待测反射膜上,在入射点发生反射和折射,形成外部反射光束和进入F-P腔的折射光束;其中进入F-P腔的折射光束部分,正入射在第一高反射膜表面,在第一高反射膜入射点被反射回到待测反射膜入射点,在该点发生透射和反射;其反射部分正入射到第二高反射膜表面,在第二高反射膜入射点被反射,再回到待测反射膜入射点发生透射和反射,形成谐振,第一高反射膜、第二高反射膜所成角度可调,且调节过程简单有效,元件加工容易。
搜索关键词: 一种 位置 可调 分立 平面 环形
【主权项】:
一种位置可调的分立平面环形F‑P腔,其特征在于:包括第一高反射膜、第二高反射膜、第一基底、第二基底和待测反射膜;第一高反射膜和第二高反射膜,均为平面结构,成一定角度放置,构成F‑P腔的两端反射面,所成角度保证光束分别垂直入射第一高反射膜和第二高反射膜;第一高反射膜和第二高反射膜分别采用由Ta2O5和SiO2组成的多层高低反射膜叠加而成,反射率达到99.9%;第一高反射膜和第二高反射膜分别镀在第一基底和第二基底上;所述待测反射膜作为平面环形F‑P腔的入射面和输出耦合面;环形F‑P腔的光路为:光线入射到待测反射膜上,在入射点发生反射和折射,形成外部反射光束和进入F‑P腔的折射光束;其中进入F‑P腔的折射光束部分,正入射在第一高反射膜表面,在第一高反射膜入射点被反射回到待测反射膜入射点,在该点发生透射和反射;其反射部分正入射到第二高反射膜表面,在第二高反射膜入射点被反射,再回到待测反射膜入射点发生透射和反射,形成谐振,环形F‑P腔的谐振光作为反馈光沿着与原入射光束共线反向的路径出射。
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