[发明专利]太阳能级硅片水基清洗剂及其制备方法

摘要

一种太阳能级硅片水基清洗剂，由下列重量份的原料制成：氢氟酸2-3、二甲苯磺酸钠1-2、壬基酚聚氧乙烯醚2-3、十二烷基二甲基氧化胺1-2、月桂醇聚氧乙烯醚3-5、二氯四氟甲烷6-8、丙二醇9-12、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明不仅可以有效的去除硅片表面的有机、无机污染，而且可以去除附着在硅片表面的金属、非金属颗粒，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。本发明的清洗液配方简单，清洗效果好，且清洗方法简单，清洗时间短，清洗需要的温度不高。本发明的助剂能够在电路板表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀电路板，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。

主权项

一种太阳能级硅片水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：氢氟酸2‑3、二甲苯磺酸钠1‑2、壬基酚聚氧乙烯醚2‑3、十二烷基二甲基氧化胺1‑2、月桂醇聚氧乙烯醚3‑5、二氯四氟甲烷6‑8、丙二醇9‑12、乙醇30‑40、助剂4‑5、去离子水100‑120；所述助剂由下列重量份的原料制成：硅烷偶联剂KH‑570 2‑3、抗氧剂1035 1‑2、植酸1‑2、吗啉3‑4、甲基丙烯酸‑2‑ 羟基乙酯3‑4、乙醇12‑15；制备方法是将硅烷偶联剂KH‑570 、植酸、乙醇混合，加热至60‑70℃，搅拌20‑30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80‑85℃，搅拌30‑40分钟，即得。