[发明专利]一种去除硅片表面污斑的水基清洗剂及其制备方法无效
| 申请号： | 201310527754.8 | 申请日： | 2013-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN103589521A | 公开（公告）日： | 2014-02-19 |
| 发明（设计）人： | 郭万东;孟祥法;董培才 | 申请（专利权）人： | 合肥中南光电有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/37 | 分类号： | C11D1/37;C11D3/60;C11D3/39;C11D3/20;C11D3/34;C11D3/36;C11D3/28 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 231600 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 一种去除硅片表面污斑的水基清洗剂，由下列重量份的原料制成：辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯3-4、十二烷基硫基乙酸钠2-3、柠檬酸钠3-4、过硼酸钠1-2、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明的清洗剂对金属离子、脂类、无机物颗粒等均有优异的清洗效果；而且通过使用过硼酸钠，对电路板表面污斑的清洗效果好，同时还具有防止电路板表面形成污斑的功效，操作方便。本发明的助剂能够在电路板表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀电路板，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 硅片 表面 水基清 洗剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种去除硅片表面污斑的水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯3‑4、十二烷基硫基乙酸钠2‑3、柠檬酸钠3‑4、过硼酸钠1‑2、乙醇30‑40、助剂4‑5、去离子水100‑120；所述助剂由下列重量份的原料制成：硅烷偶联剂KH‑570 2‑3、抗氧剂1035 1‑2、植酸1‑2、吗啉3‑4、甲基丙烯酸‑2‑ 羟基乙酯3‑4、乙醇12‑15；制备方法是将硅烷偶联剂KH‑570 、植酸、乙醇混合，加热至60‑70℃，搅拌20‑30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80‑85℃，搅拌30‑40分钟，即得。
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