[发明专利]循环式B超耦合剂的涂抹装置无效
| 申请号： | 201310463449.7 | 申请日： | 2013-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN103519844A | 公开（公告）日： | 2014-01-22 |
| 发明（设计）人： | 陶淑兰 | 申请（专利权）人： | 苏州边枫电子科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B8/00 | 分类号： | A61B8/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市吴中*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种循环式B超耦合剂的涂抹装置，其特征在于：包括上下错开设置的灭菌区及涂抹区，所述灭菌区与涂抹区之间设置装置有传送带的牵引轮，所述传送带分别穿过所述灭菌区及涂抹区，传送带的外表面设置软布。本发明结构简单，采用传送带结构的循环装置，对探头依次进行灭菌和涂抹耦合剂，既能保持探头的干净卫生，又能提高耦合剂的涂抹效率。 | ||
| 搜索关键词： | 循环 耦合 涂抹 装置 | ||
【主权项】：
一种循环式B超耦合剂的涂抹装置，其特征在于：包括上下错开设置的灭菌区及涂抹区，所述灭菌区与涂抹区之间设置装置有传送带的牵引轮，所述传送带分别穿过所述灭菌区及涂抹区，传送带的外表面设置软布。
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