[发明专利]二氧化氯气体产生装置有效

专利信息
申请号: 201310455356.X 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN104512866B 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 阪田总一郎;樋口裕幸;井上正宪;楠田昌弘;小野元嗣 申请(专利权)人: 高砂热学工业株式会社
主分类号: C01B11/02 分类号: C01B11/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈国慧;谭祐祥
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种二氧化氯气体产生装置,其能够避免伴随二氧化氯气体的生成而产生的雾和固体粒子造成的污染。一种二氧化氯气体产生装置(1),向容器(13)供给片状亚氯酸钠(a)和酸性液体(b),通过两者的化学反应来产生二氧化氯气体(c),所述二氧化氯气体产生装置(1)被遮蔽的气体产生室(11)内具有容器(13),容器(13)被分隔成多个容器部分(20),并且各容器部分(20)通过开口部(22)彼此连通,该开口部(22)具有片状亚氯酸钠(a)不能通过的大小。
搜索关键词: 氧化 氯气 产生 装置
【主权项】:
1.一种二氧化氯气体产生装置,向容器供给片状亚氯酸钠和酸性液体,通过两者的化学反应来产生二氧化氯气体,其特征在于,在被遮蔽体包围的气体产生室内具有所述容器,所述容器被分隔成多个容器部分,并且各容器部分通过开口部彼此连通,该开口部具有片状亚氯酸钠不能通过的大小,所述多个容器部分被分割成中央的容器部分和位于该中央的容器部分周围的多个容器部分,酸性液体被投入到中央的容器部分中,所述二氧化氯气体产生装置包括风机和过滤器,所述风机对在所述气体产生室内产生的二氧化氯气体进行送风,所述过滤器捕捉伴随二氧化氯气体的产生而形成的伴随污染物质。
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